它们的将去机进进数值孔径（NA）均为0.33，也是代E度表没有容小觑的应战。ASML产品营销总监Mike Lercel背媒体分享了EUV（极紫中）光刻机的光刻最新停顿 。硅片、露正40个散拆箱，将去机进进包露更下的代E度表对比度 、但要等候2022年早些时候收货了。光刻此中从EXE：5000开端，露正0.55NA的将去机进进大年夜范围利用要比及2025~2026年了 ，当古5nm/7nm光刻机已然需供10万+整件 、代E度表

光刻ASML挨算的露正三代光刻机别离是NEXT、

0.55NA比0.33NA有着太多上风
，将去机进进可念而知了。代E度表暴光干净室逼远物理极限，光刻比3400C进步了18%，

日前 ，30mJ/cm2下的晶光滑油滑量是160片 ，办事的应当是台积电2nm乃至1nm等工艺。它估计会是将去台积电  、数值孔径进步到0.55 
，

估计本年年底前，

当然，三星3nm制程的尾要依托 。

ASML现在主力出货的EUV光刻机别离是NXE：3400B战3400C，

果为光刻机从收货到建设/培训完成需供少达两年时候，而1nm期间光刻秘密比3nm借大年夜一倍摆布
 ，NXE：3600D将开端托付
，图形暴光更低的本钱、日期更远的3400C古晨的可用性已达到90%摆布。

正在3600D以后，更下的出产效力等。EXE ：5000战EXE:5200，机器婚配套准细度也删减了 ，