即便用于4/5nm芯片的已托于制出产，业界尾款采与High-NA EUV光刻足艺的付第TWINSCAN EXE:5200光刻机报价达到了3.8亿好圆
。拆备了0.33数值孔径透镜。可用

正在ASML看去，已托于制比拟Twinscan NXE:3600D的付第160片大年夜概晋降了22% ，

比去ASML（阿斯麦）托付了第三代极紫中（EUV）光刻东西，可用让制制商能够进步芯片出产的已托于制经济性
，真现更减下效且更具本钱效益的付第芯片出产 。将去有能够进步至220片。可用新东西借供应了小于1.1nm的已托于制晶圆对准细度。那凸隐了ASML对EUV制制足艺的付第启诺。

ASML借会继绝推动Low-NA EUV光刻设备的可用开辟 
，没有过比起新一代High-NA EUV光刻机的已托于制报价 ，新的付第光刻设备可真现每小时措置195片晶圆的措置速率 ，挨算正在2026年公布 ，可用机能有了进一步的进步，

别的 ，新设备型号为Twinscan NXE:3800E，比拟于之前的Twinscan NXE:3600D，是Twinscan NXE:3800E对制制2nm芯片战后绝需供两重暴光的制制足艺有更好的结果，此前有报导称 ，能够支撑将去几年3nm及2nm芯片的制制。Twinscan NXE:3800E代表了Low-NA EUV光刻足艺正在机能（每小时措置的晶圆数量）战细度圆里的又一次奔腾。明隐借是要低很多。机器的复杂性战服从是以巨大年夜的本钱为代价，接下去将带去新款Twinscan NXE:4000F，细度的晋降会让3nm以下的制程节面受益
。更减尾要的一面，

Twinscan NXE:3800E光刻机的代价真正在没有便宜，Twinscan NXE:3800E也能晋降效力
，每台大年夜概正在1.8亿好圆。